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发布时间:2021-11-15 13:12:48
化学抛光的原理:金属试样表面各组成相的电化学电位不同,形成了许多微电势,在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜,试样表面凸出部分由于粘膜薄,金属的溶解扩展速度较慢,抛光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能达到十分理想的要求。
在化学抛光过程中,金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使金属零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。
化学抛光工艺有哪些特点?
首先,化学抛光设备简单,无需电源设备。其次,化学抛光工艺不受制件外形尺寸限制,抛光速度快,生产。因为这些原因,化学抛光工艺也使得加工成本低廉。
化学抛光的优点是:不需外加电源,可以处理形状更为复杂的零件,生产等.但是化学抛光的表面质量,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光过程中会析出氧化氮等***气体。
为什么要选择化学抛光,而不是机械抛光或电抛光?
答:(1)可用于机械抛光甚感困难或无法加工的制件。如形状、结构比较复杂,具有不规则凹、凸结构的制件,狭小缝隙或孔洞的内表面,精细薄小的制件等。
(2)一般为简单的手工操作,操作方法简单,容易掌握。
(3)抛光后的制件,表面粗糙度非常均匀一致,其均匀性超过机械抛光和电抛光。
(4)作业时劳动强度小,无噪声和粉尘污染。
被抛光表面的光亮度,可通过选用不同的工艺规范来控制。对某些光亮度要求很高的制件,仅用化学抛光不容易达到要求,通常化学抛光的光亮度不及机械抛光,有时化学抛光后还需机械抛光。化学抛光前,必须对抛光制件进行清洗,包括除油污和除锈蚀。工艺的性较强。
化学抛光不只限于能获得光亮的金属表面,它还对金属的许多物理原化学性质及腐蚀性质有良好的影响。众所周知,化学抛光能改善金属的光学性质(反光系数或光反射率)和机械性能,减小金属之间的摩擦系数,提高金属在冷作状态下的塑性变形能力,增大某些磁性材料的导磁系数,消除冷发射现象等
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