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发布时间:2022-01-20 06:38:21
主要技术要点是将之前的等离子抛光中的气态粒子,原子、分子、原子团、气离子和和电离子得到数万倍的增加,而这些离子在对要抛光的工件进行物理摩擦时它们的平均活跃度得到了的增加,它的活跃程度远远高于材料表面的活跃度达数亿倍,使铝材表面的光洁度脱影而出。
等离子抛光原理
等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。进一步研发出纳米抛光液配方,在抛光液成本上进一步降低,使抛光效果进一步优化
等其他要求精度高标准的行业
如此精湛的技术抛光后的效果如何呢?
经过多方对比之后发现,突破后的技术抛光出的产品就好像一面镜子,表面光亮,无暇,光滑,和电镀后的效果几乎无异。
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